Για μια ανασκόπηση του ανταγωνισμού υποκατάστασης/απόσπασης ανατρέξτε στο υποκεφάλαιο 3.5.

Το υπόστρωμα είναι και στις δύο περιπτώσεις δευτεροταγές (το ίδιο). Οι δύο αντιδράσεις διαφέρουν στο χρησιμοποιούμενο πυρηνόφιλο/βάση. Στην πρώτη αντίδραση (ισχυρή μη παρεμποδισμένη βάση) θα παραχθεί κατά κύριο λόγο το προϊόν απόσπασης, ενώ στην δεύτερη αντίδραση (ισχυρή και παρεμποδισμένη βάση) αποκλειστικά το προϊόν απόσπασης.

Οι δύο αντιδράσεις διαφέρουν στο υπόστρωμα. Το πυρηνόφιλο/βάση είναι ισχυρό μη παρεμποδισμένο. Άρα στην πρώτη αντίδραση (δευτεροταγές υπόστρωμα) θα παραχθεί κατά κύριο λόγο το προϊόν απόσπασης και στην δεύτερη αντίδραση (δευτεροταγές παρεμποδισμένο υπόστρωμα) θα ευνοηθεί ακόμη περισσότερο το προϊόν απόσπασης.

Το υπόστρωμα είναι και στις δύο περιπτώσεις το ίδιο και δευτεροταγές. Οι δύο αντιδράσεις διαφέρουν στο χρησιμοποιούμενο πυρηνόφιλο/βάση. Στην πρώτη αντίδραση (καλό πυρηνόφιλο αλλά ασθενής βάση) θα παραχθεί κατά κύριο λόγο το προϊόν υποκατάστασης, ενώ στην δεύτερη αντίδραση (καλό πυρηνόφιλο και ισχυρή βάση) θα παραχθεί και το προϊόν απόσπασης αλλά σε μικρότερη αναλογία.

Το υπόστρωμα είναι και στις δύο περιπτώσεις δευτεροταγές (το ίδιο) και το πυρηνόφιλο/βάση ισχυρό. Οι δύο αντιδράσεις διαφέρουν στο χρησιμοποιούμενο διαλύτη. Στην πρώτη αντίδραση ο διαλύτης είναι πρωτικός άρα θα δώσει σε μεγαλύτερο βαθμό το προϊόν απόσπασης από ότι η δεύτερη. Ωστόσο και στις δύο αντιδράσεις το κύριο προϊόν θα είναι το προϊόν απόσπασης.

Οι δύο αντιδράσεις διαφέρουν στη θερμοκρασία διεξαγωγής τους. Το υπόστρωμα είναι και στις δύο περιπτώσεις δευτεροταγές (το ίδιο) και το πυρηνόφιλο/βάση ισχυρό. Στην πρώτη αντίδραση (θερμοκρασία δωματίου) θα παραχθεί σε μεγαλύτερο βαθμό το προϊόν απόσπασης, ενώ στη δεύτερη (υψηλή θερμοκρασία) θα παραχθεί μόνο το προϊόν απόσπασης.